Produkter Beskrivelse

Flake -grafit med høj renhed er en høj - End -grafitprodukt valgt fra naturlig flake -grafitmalm og dybt oprenset og forarbejdet. Det er et funktionelt ikke - metallisk materiale med højt kulstofindhold og fremragende fysiske og kemiske egenskaber.

Kernefunktioner

1. Ultra - Høj renhed

(1) Dette er den mest kernefunktion. Det faste kulstofindhold i høj - renhedsflake -grafit er normalt større end eller lig med 99,9%, høj - slutprodukter kan nå større end eller lig med 99,95%, større end eller lig med 99,99%eller endda højere.

)<0.01%.

(3) Færre og specifikke urenhedstyper: De vigtigste resterende urenhedselementer kan omfatte spormængder af Fe, S, SI, AL, CA osv., Som skal kontrolleres strengt for at imødekomme kravene i høje - slutapplikationer.

2. unik skala - som krystalstruktur

(1) Det bevarer den perfekte lagdelte krystalstruktur af naturskala grafit, der ligner et lille ark eller skala. Denne struktur bestemmer dens fremragende fysiske egenskaber.

(2) The advantage of large flakes: The value of large flakes is often in retaining a larger sheet diameter size (usually>150 mesh / 100 um eller endda større såsom +80 mesh, +50 mesh). Store flager har flere fordele ved konstruktion af ledende netværk, smøring og fremstilling af grafen ved ekspansion.

(3) Klassificering: I henhold til størrelsen på chippen (normalt målt ved mesh eller mm) kan den opdeles i storskala, mellemskala, fin skala og grafit med høj renhed for at imødekomme forskellige applikationskrav.

3. Fremragende fysiske og kemiske egenskaber

(1) Fremragende elektrisk ledningsevne: Kobberens elektriske ledningsevne er ca. 4 gange kobber, og den høje elektriske ledningsevne gør det meget velegnet til felter, der kræver ledende fyldstoffer.

(2) Fremragende termisk ledningsevne: Lagets termiske ledningsevne er fremragende, og det er et godt termisk ledende materiale.

(3) Høj smøremiddel (lav friktionskoefficient): dens lagdelte struktur gør grafitlaget let at glide, hvilket giver effektiv smøring.

(4) Resistens med høj temperatur: kan være lang - termbestandig over for høj temperatur over 3000 grader under ilt - frie betingelser, er et ideelt ildfast og højt temperaturmateriale.

(5) Korrosionsbestandighed: har fremragende kemisk stabilitet over for de fleste syrer, alkalier og organiske opløsningsmidler.

(6) Plasticitet/belægning: Blød struktur, let at kombinere med andre materialer, kan behandles til belægninger, fedt, film og andre former.

(7) Lav termisk ekspansionskoefficient: Lille deformation ved høj temperatur og god dimensionel stabilitet.

(8) Antioxidation: skønt lavere end høj renhed kunstig grafit, men god stabilitet i den relativt lave temperatur og ikke - oxiderende medium miljø.

Typiske tekniske specifikationer og parameterområder

Karakteristisk	Typisk omfang (industriel kvalitet høje renhedsprodukter)	Top Range (4N+)	forklare
Fast kulstofindhold (FC%)	Større end eller lig med 99,9%	Større end eller lig med 99,95%, større end eller lig med 99,99%	Kerneindikatorer
Ash (%)	Mindre end eller lig med 0,1%	Mindre end eller lig med 0,05%, <0,01%	Jo lavere jo bedre
Flygtige komponenter (VM%)	Mindre end eller lig med 0,2% - 0.5%	Mindre end eller lig med 0,2%	Påvirket af processen
Fugt (fugt%)	Mindre end eller lig med 0,3% - 0.5%	Mindre end eller lig med 0,3%	Det kan stige lidt efter opbevaring
Sheet Diameter (tælling/størrelse)	+150 mesh+100µm- +50 mesh	+80 mesh+180µm- +50 mesh	Store flager er af høj værdi og kan produceres til fine flager efter behov
PH -pris	~ 7 (neutral) eller lidt højere/lavere	~ 7	Relateret til post - behandling
Hoved urenhedselementer (PPM)	Fe: snesevis til hundreder, S: mindre end eller lig med hundreder<1000	Kontroller strengt det samlede beløb og hvert element	Særlige krav til specifikke applikationer (f.eks. Lib, nuklear brug)
Overflade	Grålig til mørk sort skællende pulver	-

Bemærk: Produkter understøtter personlig tilpasning.

Klassificeringskriterier

By purity: C> 99.9% (3N), C> 99.95% (3N5), C> 99.99% (4N), C> 99.995% (4N5), C>99.999% (5n) og så videre.
Med diameter (screening): formuleret efter forskellige standarder eller krav, såsom +50 mesh, +80 mesh, +100 mesh, +150 mesh, -325 mesh osv.
I henhold til det endelige applikationsindeks bruges det for eksempel specielt til grafit med høj renhed til lithiumanodematerialer og grafit med høj renhed til atomreaktorer.